| 摘 要 | 本发明涉及磁控溅射镀膜装置技术领域。一种磁控溅射装置的可旋转样品位,包括磁控溅射装置及配置在装置中的磁控溅射靶(10),呈圆环形的绝缘底板(7)套置在磁控溅射靶(10)底部,在绝缘底板(7)上安装若干垂直滚动的滚动轴承(6),滚动轴承(6)支撑一个水平配置旋转的大齿轮(3),大齿轮(3)的上方配置筒式的支撑管(4),支撑管(4)的顶部为样品位(5),大齿轮(3)的外侧与水平配置的小齿轮(1)啮合,小齿轮(1)由电机(2)驱动。本发明实现了样品在磁控溅射的过程中均匀平稳旋转的动作,提高薄膜成分和厚度的均匀性,且本装置结构简单,操作使用保养维护方便,不需要增加复杂而精密的硬件和相应的控制软件,降低了磁控溅射设备的设计难度和制造成本。 |
